臺積電2納米製程技術外泄 大量拍攝資料流向日企員工

中國台灣網8月6日訊 據臺媒報道，臺積電公司傳出2納米製程機密泄密案。臺積電5日表示，公司多名員工涉嫌竊取臺積電最先進的2納米晶片工藝相關的商業機密。臺積電已解雇相關人員，目前正採取法律行動。據臺媒報道，外泄數據流向日本半導體設備製造商“東京電子”（TEL）的一名設備工程師。

知情人士透露，多名臺積電前員工涉嫌在任職期間非法獲取與2納米晶片相關的關鍵專有信息。經查至少有9人涉案。其中3人利用手機拍攝大量資料，外傳內容涉及2納米製程的關鍵圖片資料，照片高達上千張，流向日本廠商東京電子員工，3人被發現後已經第一時間被開除；6人因提供2納米相關資料，調離原單位。

台灣地區檢察部門5日證實，該案已在偵辦中。案件由臺積電主動發現，在例行監控時發現內部檔案接觸異常，經內部調查後，發現公司的“核心關鍵技術營業秘密”遭到前員工與現任員工非法取得，台灣地區檢察部門在7月25日到28日陸續傳喚6名被告，其中3人被羈押禁見。

臺積電預計今年底前量産2納米晶片，該技術被視為現階段全球最先進的晶片製造工藝，目前僅有臺積電、三星、英特爾與日本Rapidus等少數企業仍持續研發。外傳此案流向涉及到的日本東京電子公司不僅是全球第四大半導體設備商，同時也是日本Rapidus公司的股東。

據日媒《日經亞洲》報道，此案不僅牽涉營業機密，更可能影響台灣在全球晶片産業中的技術優勢以及台灣地區安全。