翟冠傑：突破技術壁壘 領跑MCU領域創新發展

　　我國微電子領域近年來取得了較快發展，市場規模日益壯大。然而早年間受技術壁壘所限，面臨著嚴峻的技術研發任務和市場競爭壓力。面對這一挑戰，翟冠傑帶領賽元微電子研發團隊直面專利研發過程中遇到的技術難題，攻克了原本難以入手的技術壁壘，取得了更上層樓的創新發展。

　　賽元微電子多年來專注于MCU積體電路領域的産品研發及創新工作，在創新和技術發展過程中，先進製程研發和專利技術産業化的相關問題始終蔚為突出，成為橫亙在翟冠傑面前亟待跨越的鴻溝。

　　首先是先進製程研發的問題。積體電路行業存在著名的摩爾定律，雖然MCU相對來説對摩爾定律的跟進速度並沒有消費類産品(如手機及音視頻産品)快，但先進製程仍然會讓産品更快速、更低功耗、更低成本，是産品能否具備競爭力的關鍵因素，也是影響行業發展的重要一環。賽元微電子成立以來，為提升産品性能從而塑造産品競爭力，每隔3年左右便會有一代製程升級。公司2011年成立以來，迄今已經歷了0.35um、0.18um和90nm等幾代製程的研發。隨著製程更加先進和線寬的降低，IC的工作速度更快、功耗更低、成本也更低了，但在抗干擾、抗靜電等可靠性問題上也凸顯出了極大的技術困難。

　　先進製程意味著研發費用和人力投入成本的大幅增加。一代製程升級的研發成本將高於上一代産品5-10倍，風險系數和研發壓力由此可見一斑。積體電路從研發到最終可以向用戶銷售，中間往往需要經歷數年時間，花費數百萬甚至千萬元人民幣以上資金，灌注無數次失敗的淚水和重頭再來的勇氣。團隊需要百折不撓的鋼鐵意志、淡泊財富的達觀心態和連綿不斷的創新意識方能在無數次的改進升級中實實在在地提升産品性能，以産品説話，加速生活智慧化和便捷化。

　　專利的産業化同樣也要審慎對待。從全球範圍內來看，專利多誕生於科研機構內部，被實際使用和産業化的比例很低。賽元微電子深耕于我國著名的創客之城深圳，研發出解決用戶實際問題的創新型專利技術成果是首當其衝的責任。當然，從理論邁向實踐的過程不會是一蹴而就的，環境和量産問題都是技術革新路途中繞不過去的溝壑。

　　若要更進一步地説明專利技術産業化的問題，賽元電容感應水位檢測專利的具體産業化就是個形象的例子。傳統的水位檢測大多依賴機械結構，如馬桶的浮球;也有電子開關類結構，如加濕器的幹簧管和豆漿機的導電棒;還有飲水機的連通器結構等。賽元的創新專利則採用非接觸形勢，可以在不接觸水的情況下實現水位檢測，從而保證了水的衛生狀況，産品也更小巧。賽元的水位檢測創新産業化，一樣經歷了原理性創新、實驗室成功、産品可行性和具體客戶使用等諸多階段，同時需要解決此過程中的大量問題。包括環境變化、結構安裝及環境影響和一致性等問題都是實現大批量生産的攔路虎，都是影響專利能否産業化的重要因素。經過翟冠傑帶領團隊長期試驗，且經過很多用戶的量産檢驗，賽元微電子的水位檢測IC SCW8916B終於幫助賽元完成了水位檢測技術産業化，歷經坎坷，終於成為了名副其實的行業領跑者，為行業發展和進步締造了傑出貢獻。