全球300余位專家齊聚中國“光谷” 共話光電産業未來

　　新華社武漢11月13日電（記者鄒學冕、張悅姍）第十六屆“中國光谷”國際光電子博覽會暨論壇13日在武漢東湖新技術開發區開幕，逾300位來自中、美、德、日、南非等多國的頂尖學者和商界領袖匯聚一堂，共同探討前沿光電科技，共商光電産業未來。

　　據主辦方介紹，參加本屆博覽會暨論壇的專家層次再創歷史新高，活動期間，多位國際頂尖學者將分別參加國際信息光電子産業高峰論壇、光學青年科學家論壇、微納光電子高峰論壇、超快鐳射高峰論壇等24場專題論壇。

　　記者在現場看到，在當天舉行的國際信息光電子産業高峰論壇上，2014年諾貝爾獎得主、美國斯坦福大學教授威廉·莫納，以及三維光學顯微成像理論先驅、澳大利亞科學院院士顧敏分別就“生物單分子三維納米光子學”和“納米級別的光學成像技術”等前沿問題展開了研討。

　　本屆博覽會暨論壇將於15日閉幕，除吸引300余位專家學者與會外，包括聖德科、艾克斯布魯等在內的400家全球光電子參展企業也將在活動期間亮相。

　　一年一度的“中國光谷”國際光電子博覽會暨論壇由工業和信息化部、科學技術部、國家知識産權局、中國科學院、中國國際貿易促進會、湖北省人民政府聯合主辦，經過15年的發展，已經成為國內規模最大、最具國際影響力的光電子産業盛會。